屏幕显示行业越来越火，随之对镀膜工艺的要求也越来越高，膜厚测试的需求也变得越来越多。膜厚测试有很多种方法，今天我给大家介绍无损检测的两种光学测试方法：薄膜反射干涉法和椭偏光谱法。

一、薄膜反射干涉测量膜厚
      测量原理:入射光经薄膜上表面反射后得到第一束光,折射光经薄膜下表面反射又经上表面折射后得到第二束光,这两束光在薄膜的同侧,由同一入射振动分出,是相干光,当两束光相遇时会产生干涉。

根据公式：
       Δ=2ntcos(θt)±λ/2
      式中n为薄膜的折射率，t为入射点的薄膜厚度，θt为薄膜内的折射角，±λ/2 是由于两束相干光在性质不同的两个界面(一个是光疏-光密界面，另一是光密-光疏界面)上反射而引起的附加光程差。

      系统配置：光谱仪、光源、反射探头、支架、标定硅片
      优点：适用于大部分已知n、k系数的介质的透明、半透明材料，且成本相对低。（需要知道测试样品的n、k值，才能测得膜厚）

干涉法软件界面-海洋光学

二、椭偏光谱法测量膜厚

      测量原理：光源经过起偏器和滤镜后得到已知入射光的偏振态，偏振光在样品表面被反射,测量得到反射光偏振态（幅度和相位），可计算出材料的光学属性，包括膜厚、透过率、消光系数等。
椭偏仪测量的公式比较复杂，不在这里展开。需要了解的请直接联系我们。

      系统配置：光源、起偏器、滤片、检偏器、光谱仪。
      优点：测量精度高，可以测量超薄膜的膜厚，可以测得多层介质的n、k系数。

椭偏法软件界面-海洋光学